刘思远 · Analog Design Engineer
个人总结
刘思远拥有约2年模拟IC设计经验,深耕射频与电源管理芯片领域。在0.18μm SiGe BiCMOS工艺下成功完成低噪声放大器与混频器设计,流片良率达92%;并主导高精度基准电压源项目,将温度系数优化至4.2ppm/℃,实测良率超97%。精通Cadence Virtuoso/Spectre及全定制版图流程,具备从原理图到量产验证的完整闭环能力。
工作经历
面向5G基站射频前端,采用0.18μm SiGe BiCMOS工艺设计低噪声放大器(LNA):使用Cadence Virtuoso完成原理图与版图,通过SPICE仿真优化输入匹配与噪声性能,实现0.85dB噪声系数、18.5dB增益及-12dBm输入1dB压缩点,流片良率达92%。
针对混频器模块线性度与转换增益的权衡,采用Gilbert单元并引入源极退化电感,在Cadence环境下完成全定制版图设计;后仿真实现6.5dB转换增益、+10dBm IIP3及小于-45dBc的LO泄漏,经两次流片迭代满足系统规格。
负责射频前端模拟模块的版图布局与信号完整性审查,通过添加屏蔽地环与优化关键差分走线间距,将衬底耦合噪声降低约8dB,确保LNA与混频器级联时增益平坦度保持在±0.3dB以内,助力整体接收链路噪声系数达标。
项目经历
作为项目负责人,在0.18μm BCD工艺下设计带隙基准电压源,采用分段曲率补偿技术抑制温度漂移,将温度系数从典型值10ppm/℃优化至4.2ppm/℃(-40~125℃范围)。
使用Cadence Spectre完成全工艺角与蒙特卡洛仿真,确保±3σ工艺波动下温度系数低于5.5ppm/℃,流片后实测良率达97%以上。
独立完成从原理图到版图验证全流程,版图面积压缩至0.012mm²,通过DRC/LVS及寄生参数后仿,实测基准电压1.215V,偏差小于0.3%。
项目周期10个月,按期交付流片;测试显示电源抑制比(PSRR)在1kHz处达-85dB,静态电流仅12μA,满足高精度ADC/DAC供电需求。
编写完整设计文档与测试报告,总结温度补偿算法与版图优化经验,为后续低功耗基准源设计提供可复用的技术参考。
作为核心设计成员,基于0.18μm BCD工艺设计峰值电流模式升压转换器,在3.6V输入、5V输出/0.5A负载下实现95.2%峰值效率,输出纹波控制在18mV以内。
独立完成Type-III型环路补偿网络设计与建模,通过Cadence Spectre扫频仿真验证,全负载范围相位裕度>65°,负载调整率优于0.5%。
使用Altium Designer进行原理图绘制与双层PCB布局,优化功率级走线及反馈路径,经后仿真确认无稳定性风险;配合测试团队完成板级验证,实测效率与仿真偏差<1%。
参与系统级行为建模,用Verilog-A构建开关管与误差放大器模型,加速瞬态仿真收敛,将单次仿真时间从8小时缩短至2.5小时,支持多参数快速迭代。
教育经历
专业技能
荣誉奖项
该竞赛作品基于FPGA实现了数字示波器,具备信号采集与显示功能,获得省级一等奖。
该论文设计了一款高精度带隙基准电压源,电路性能稳定,被评为校级优秀毕业论文。
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